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中공장 둔 삼성전자·SK하이닉스…"투자적기 놓칠라" 발동동
2021-11-18 17:57:14 

◆ 美·中 반도체 패권전쟁 ◆

SK하이닉스가 지난 2월 경기도 이천 캠퍼스에 처음으로 극자외선(EUV) 노광장비를 도입했다. EUV 장비는 반도체를 제조할 때 웨이퍼에 회로를 그려 넣는 '포토공정'에서 극자외선 파장의 광원을 사용한다. 극자외선 파장의 광원은 기존 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 10분의 1 미만으로 짧아 더 미세한 회로를 그릴 수 있다. 10나노미터(㎚·㎚는 10억분의 1m)급 미만 반도체를 생산하기 위해서는 EUV 노광장비가 필수적이다.
현재 EUV 장비는 네덜란드 ASML이 전 세계에서 유일하게 생산 중이다. SK하이닉스는 ASML과 2025년 말까지 EUV 장비 4조7500억원어치를 들여오는 계약을 체결한 상태다.

미국과 중국의 반도체 패권 경쟁이 본격화하면서 한국 기업의 입지가 좁아지고 있다. 반도체 제조를 위한 핵심 장비를 대부분 미국이나 일본, 네덜란드로부터 수입해서 사용하는데, 이러한 장비 수출에 대해서도 미국이 꼼꼼하게 간섭하고 나섰기 때문이다. 이번에 미국이 우방국인 네덜란드를 움직여 ASML의 EUV 장비의 중국 수출을 막은 것도 SK하이닉스에는 악재다. 반도체 업계에서는 미국의 이런 방식의 제재가 장기화하면 SK하이닉스가 중국 우시에 운영하고 있는 공장의 공정 개선에 큰 걸림돌로 작용할 것으로 보고 있다. 우시 공장은 SK하이닉스 D램 생산량의 30% 이상을 생산하고 있으며 이는 전 세계 D램 생산량의 10%를 넘어선다. 반도체 공정은 그 특성상 끊임없이 첨단 장비와 공정을 적용해 제품을 개량하고 생산 효율을 높이는 것이 필수적이다. 나노 단위 경쟁이 펼쳐지는 초미세공정에서는 투자 시기가 조금만 늦어져도 세계 경쟁력에서 크게 밀려날 수 있다. 결국 SK하이닉스 중국 우시 공장이 경쟁사인 삼성전자나 미국의 마이크론처럼 적기에 EUV 장비로 공정을 개선하지 않는다면 비용 절감과 생산 속도 개선이라는 목표를 달성할 수 없어 경쟁에서 뒤처질 수밖에 없다는 우려가 나온다. 지난해 업계 최초로 D램 생산에 EUV 공정을 적용한 삼성전자는 최근 업계 최선단인 14나노미터 D램 양산에 돌입한 바 있다.

1990년대 세계 반도체 시장 점유율의 49%를 차지하며 시장을 석권했던 일본 역시 투자 시기를 놓쳐 한국과의 경쟁에서 밀려났다. NEC와 히타치제작소가 설립한 D램 반도체 업체 엘피다메모리는 2012년 파산했다. 또 히타치와 미쓰비시, NEC가 힘을 합친 르네사스일렉트로닉스도 적자에 시달리고 있다. 일본의 마지막 자존심으로 불리는 도시바의 메모리 반도체 사업도 한·미·일 연합에 넘어갔다. 현재 일본의 반도체 시장 점유율은 10% 안팎까지 하락한 상태다. 반도체 업계는 당장 메모리를 생산하는 SK하이닉스가 직접적 영향을 받지만 장기적으로 낸드플래시 공정을 운영하는 삼성전자도 피해를 볼 수 있다는 우려가 나온다. 삼성전자와 미국 마이크론은 미국의 대중국 수출 제한에 해당하는 공장에는 EUV 장비 도입을 준비하지 않고 있다. 그러나 신규 공장 유치나 장비 반입뿐 아니라 기존 생산시설의 증설까지 막으면 생산에 차질을 빚을 수밖에 없다.

앞서 조 바이든 미국 행정부는 국가안보상 위협을 우려해 자국 주요 반도체 기업인 인텔의 중국 내 생산시설 확대에 제동을 걸었다.
인텔은 반도체 공급 부족 사태를 해소하기 위해 최근 중국 청두 공장에서 핵심 재료인 실리콘 웨이퍼 생산을 늘리려고 했다가 정부의 반대로 계획을 철회했다.

업계는 이번 사태가 SK하이닉스의 인텔 낸드사업부 인수에도 영향을 미칠지 촉각을 곤두세우는 분위기다. 인텔 낸드사업부 인수는 경쟁 당국의 기업결합 승인 심사 대상 8개국 가운데 중국의 승인만 남아 있는 상태다. 당초 연내에 승인이 예상됐지만 미국 측 행보에 불만을 품은 중국 정부가 애꿎은 하이닉스에 화풀이할 수 있다는 우려도 나온다.

[박재영 기자]

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